Массив микролинз

• Материал подложки: УФ плавленый кремнезем
• Устанавливается в крепление Ø25,4 мм
• Микролинзы делятся на круглые и квадратные.
• Обычно используется для гомогенизации луча, формирования луча, соединения волоконных массивов, накачки твердотельного лазера, лазерной обработки и т. д.
• Антибликовое покрытие с обеих сторон

     Массивы микролинз LBTEK состоят из микролинз, расположенных в двумерной сетке на подложке из плавленого кварца с УФ-излучением, с просветляющими покрытиями с обеих сторон. Микролинзы LBTEK изготавливаются с использованием технологии фотолитографии, которая позволяет каждой микролинзе иметь хорошую однородность формы и положения. Массив микролинз может разделить волновой фронт луча на множество крошечных частей в пространстве, и каждая часть фокусируется в фокальной плоскости соответствующей микролинзой. Если волновой фронт луча представляет собой идеальный плоский волновой фронт, то фокальная плоскость массива микролинз может быть. A представлен набор обычных фокусных точек, но фактический волновой фронт луча не является идеальным плоским волновым фронтом. После фокусировки с помощью массива микролинз фактический фокус будет отклоняться от идеального фокуса. На основании приведенного выше описания комбинация матрицы микролинз и матрицы ПЗС может составлять датчик волнового фронта Шака-Гартмана. Массивы микролинз могут применяться для гомогенизации луча, формирования луча, накачки твердотельного лазера, связанного с массивом волокон, и лазерной обработки. LBTEK предлагает два типа массивов микролинз с просветляющим покрытием и хромированной маской. Матрица микролинз с просветляющим покрытием имеет два типа: MLAS10-F05-P150-AB и MLAS10-F15-P300-AB. Номер модели массива микролинз MLAS10- Ф05-П150-АБ. Если у вас есть другие потребности, обратитесь в службу технической поддержки LBTEK для настройки.

Общие параметры

Массив микролинз, просветляющее покрытие: 400–900 нм.

• Материал подложки: УФ плавленый кремнезем
• Рабочий диапазон длин волн: 400-900 нм
• Обычно используется для гомогенизации луча, формирования луча, соединения волоконных массивов, накачки твердотельного лазера, лазерной обработки.

Массивы микролинз LBTEK размещаются в креплениях диаметром 25,4 мм, которые подходят ко всем креплениям для оптики диаметром 25,4 мм. Чистое окно апертуры монтировки составляет 9 мм x 9 мм. Существует два типа массивов микролинз LBTEK, покрытых просветляющими покрытиями с длиной волны 400–900 нм: MLAS10-F05-P150-AB и MLAS10-F14-P300-AB.

Массив микролинз, установленный, f=5,2 мм, p=150 мкм, просветляющее покрытие, 400–900 нм

Массив микролинз, установленный, f = 14,6 мм, p = 300 мкм, просветляющее покрытие 400–900 нм

Массив микролинз, хромированная маска.

• Материал подложки: УФ плавленый кремнезем
• Рабочий диапазон длин волн: 300-1100 нм
• Обычно используется для гомогенизации луча, формирования луча, соединения волоконных массивов, накачки твердотельного лазера, лазерной обработки.

Массивы микролинз LBTEK размещаются в креплениях диаметром 25,4 мм, которые подходят ко всем креплениям для оптики диаметром 25,4 мм. Чистое окно апертуры монтировки составляет 9 мм x 9 мм. Массивы хромированных микролинз LBTEK доступны как MLAS10-F04-P150-AB.

Массив микролинз, установленный, f=4,1 мм, p=150 мкм, хромированная маска 300–1100 нм

График:

Схема установки: